均一性(Homogeneity):半导体制造中最重要的'隐形'指标
同一个东西,在任何一个地方取样,性质都一样。为什么半导体对均一性要求极高?3σ 标准、工艺窗口、良率的关系。
Thoughts on materials, semiconductors, and building things.
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同一个东西,在任何一个地方取样,性质都一样。为什么半导体对均一性要求极高?3σ 标准、工艺窗口、良率的关系。
UIUC Qing Cao 团队用 <200°C 卷转印工艺在 BEOL 上堆叠 3 层单晶硅晶体管,性能接近传统硅 FEOL,良率 ~98%。
经典热力学核心概念——状态函数、Legendre 变换、系综与化学势,分子模拟的地基
70 年 AI 研究最大的教训是:利用算力的通用方法,终将碾压人类精心设计的领域知识。从 2019 到 2026,Sutton 的预言成真了吗?
DFT 用量子力学计算多体系统电子结构的方法,21 世纪计算化学和材料科学的基石。